Fotorefrakční efekt je základem holografických optických aplikací, ale přináší potíže i jiným optickým aplikacím, takže zlepšení fotorefrakční odolnosti krystalu niobátu lithného je věnována velká pozornost, mezi nimiž je nejdůležitější metodou dopingová regulace.Na rozdíl od fotorefrakčního dopingu se u antirefrakčního dopingu používají prvky s neproměnnou valenciou pro redukci fotorefrakčního centra.V roce 1980 bylo oznámeno, že fotorefrakční odpor krystalu LN s vysokým poměrem Mg se zvyšuje o více než 2 řády, což přitáhlo rozsáhlou pozornost.V roce 1990 vědci zjistili, že LN dopovaný zinkem má vysokou fotorefrakční odolnost podobnou LN dopovaným hořčíkem.O několik let později bylo zjištěno, že LN dotované skandiem a indiem mají také fotorefrakční odolnost.

V roce 2000 Xu a kol.zjistil, že vysokopoměr Mg-dopovanéLNkrystal s vysokou fotorefrakční odolností ve viditelném pásmu hasvynikající fotorefrakční výkon v UV pásmu.Tento objev prolomil chápáníafotorefrakční odolnostLNkrystal, a také vyplnil polotovar fotorefrakčními materiály aplikovanými v ultrafialovém pásmu.Kratší vlnová délka znamená, že velikost holografické mřížky může být menší a jemnější a lze ji dynamicky mazat a zapisovat do mřížky ultrafialovým světlem a číst červeným světlem a zeleným světlem, aby bylo možné realizovat aplikaci dynamické holografické optiky. .Lamarque a kol.přijal vysoképoměr Mg-dopovanéLN krystal poskytnutý Nankai University jako UV fotorefrakčnímateriála realizoval programovatelné dvourozměrné laserové značení pomocí dvouvlnného zesílení světla.

V raném stádiu anti-fotorefrakční dopingové prvky zahrnovaly dvojmocné a trojmocné prvky, jako je hořčík, zinek, indium a skandium.V roce 2009 Kong a spol.vyvinul anti-fotorefrakční doping pomocí tetravalentní prvky jako hafnium, zirkonium a cín.Při dosažení stejné fotorefrakční odolnosti ve srovnání s dvojmocnými a trojmocnými dotovanými prvky je dotační množství čtyřmocných prvků menší, například 4,0 mol% hafnia a 6,0 mol% dopovaného hořčíkuLNkrystaly mají similarfotorefrakční odolnost,20,0 mol% zirkonia a 6.5 mol % dopovaný hořčíkemLNkrystaly mají similarfotorefrakční odolnost.Navíc segregační koeficient hafnia, zirkonia a cínu v niobátu lithném se blíží 1, což je příznivější pro přípravu vysoce kvalitních krystalů.

Vysoce kvalitní LN vyvinutý společností WISOPTIC [www.wisoptic.com]